总投资6亿元 南大光电拟在宁波投建光刻胶材料项目

10月23日，电子材料供应商南大光电发布公告，其与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》，将加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。

根据公告，南大光电拟在宁波经济技术开发区投资开发高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料，形成规模化生产能力，建立配套完整的国产光刻胶产业链。该项目计划总投资6亿元人民币，预计总用地50亩，项目完全达产后，预计实现约10亿元人民币的年销售额，年利税预计约2亿元人民币。

南大光电表示，本协议的实施符合公司发展战略，有利于公司建立配套完整的国产光刻胶产业链，提升公司竞争力和盈利能力，对公司进一步树立优秀电子材料供应商的发展定位有极大的推动作用。

公告还指出，本次签署的《投资协议书》所涉及的“先进光刻胶材料以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料”项目，与公司正在推进的“193nm光刻胶产品的开发与产业化”项目系两个独立的项目，目前“193nm光刻胶产品的开发与产业化项目”顺利推进。